一、電子半導體廢水的來源和污染物化學成分

　　電子半導體廢水的來源于半導體研磨過程產(chǎn)生的廢水，例如酸堿廢水、半導體研磨污水、半導體含氟廢水、半導體含磷廢水、半導體氨氮廢水。半導體有機廢水等，另外還來源于半導體集成電路的蝕刻廢水、鍍槽廢水、清洗廢水等，這些廢水的直接排放會對周圍環(huán)境造成一·定污染。在電子產(chǎn)品及有關(guān)金屬制品的生產(chǎn)制造和回收運用全過程中，造成大量的電子廢水。電子廢水的成份不一樣，所含污染物的類型和內(nèi)容也有差別，電子半導體廢水的污染物化學成分為磷、氟離子、超細顆粒物、氨氮、有機物COD、重金屬離子等。在其中基礎(chǔ)都都帶有鉻、銅、鎳、鎘、鋅、鉛、汞等重金屬離子離離子、氰·化物、一些酸性物質(zhì)和堿性物質(zhì)。廢水中的重金屬離子具備毒性長，不可以生物降解等特性，并且可以在生物中富集，使生物功能紊亂，對生態(tài)環(huán)境和人體健康造成嚴重危害。因此，針對電子半導體廢水處理，需根據(jù)每個生產(chǎn)企業(yè)的具體情況和當?shù)毓I(yè)廢水的排放標準，建設(shè)針對性需求的電子半導體廢水處理系統(tǒng)工程，才能保證廢水處理站建成后穩(wěn)定運行

　　二、電子半導體廢水處理方法

　　電子半導體廢水處理以膜法深度處理循環(huán)利用為主

　　混凝預處理+砂濾+超濾+反滲透膜法，前期的混凝預處理選擇混凝劑較為關(guān)鍵，普通的混凝劑如聚鋁、聚鐵等處理不能滿意，特別是不能完全絮凝去除堵塞膜的超細顆粒物，需要特殊的納米級別的有機混凝劑，絮凝分離污染膜的懸浮物、顆粒物、膠體、重金屬等。

　　電滲析技術(shù)在硅及半導體行業(yè)具有廣泛的應(yīng)用前景：

　　1.純化硅

　　硅是半導體電子行業(yè)的基礎(chǔ)材料。純化硅是提高半導體電子材料質(zhì)量的關(guān)鍵因素。通過電滲析技術(shù)，可以有效地從雜質(zhì)中分離出純硅。在電滲析過程中，將硅溶解在酸性溶液中，并通過一個特殊的離子交換膜將純硅分離出來。這種方法非常適用于制造高質(zhì)量的硅片。

　　2.分離半導體材料

　　電滲析技術(shù)還可用于分離半導體材料。半導體材料通常含有多種元素這些元素需要經(jīng)過分離才能得到半導體電子器件所需的純度和可靠性。電滲析技術(shù)通過一系列的依據(jù)不同化學活性的離子來分離這些元素，在這種方法中，首先將半導體材料溶解在溶液中，并將帶負電荷的膜放在溶液中。離子將在膜上積聚，并被分離出來。

　　3.制造電子器件

　　電滲析技術(shù)是制造電子器件的關(guān)鍵技術(shù)之一。電子器件通常由半導體材料制成。在制造過程中，需要將不同的元素分離出來以得到所需純度和可靠性的材料。電滲析技術(shù)可實現(xiàn)這一過程。此外，該技術(shù)還可用于生產(chǎn)電子器件中所需的良好電阻率、生長速率、表面平整度和表面反應(yīng)性等。